精準氣體控制，助力芯片制造——易度MFC在半導體行業的應用

在當今信息化高速發展的時代，半導體作為各類智能設備的核心元件，其制造工藝復雜而精細，對工藝環境提出了要求。其中，氣體的精準輸送與控制，是半導體工藝成敗的關鍵之一。作為氣體流量控制領域的專業企業，易度智能以高性能MFC（質量流量控制器）為核心，為半導體行業的多道核心工藝環節提供了高可靠性的解決方案。

氣體流量控制在半導體工藝中的關鍵作用

在半導體芯片的制造過程中，氣體被廣泛應用于以下核心工藝中：

化學氣相沉積（CVD）：需將反應氣體均勻注入反應室，形成致密薄膜；

等離子體刻蝕（Plasma Etching）：通過活性氣體選擇性蝕刻晶圓表面圖形；

離子注入（Ion Implantation）：需要穩定的載氣和保護氣體環境；

氣體清洗與腔體保護：諸如氮氣吹掃、惰性氣體保護等操作；

前道與后道工藝的潔凈控制：確保氣體成分、壓力和流量在微小波動范圍內。

這些工藝環節中，對氣體流量的精度、穩定性、重復性和響應速度都有極為嚴苛的要求，任何微小的波動都有可能影響器件性能或導致良率下降。

易度MFC產品優勢：專為半導體工藝而生

作為國內流量計與控制器品牌，尤其是目前關稅的增加使得國產替代進口產品的趨勢逐日上升，易度MFC專為半導體行業工藝特點定制，具備以下核心優勢：

1. 高精度 ±1%F.S. 或更優

采用先進的層流壓差式質量流量測量原理，結合智能補償算法，對氣體溫度和壓力變化具有良好適應性，可穩定控制各類腐蝕性與惰性氣體流量。

2. 快速響應 ≤1毫秒調節穩定

控制響應速度快，適應半導體工藝對氣體啟閉時間敏感的特點，減少等待時間，提高產線節拍效率。

3. 良好的重復性與線性

流量重復性優于±0.2%F.S.，長期工作狀態下穩定性高，為關鍵工藝參數的可控性提供保障。

4. 高兼容性接口與通訊協議

支持多種通訊方式（如RS485、Modbus、0-5V/4-20mA模擬信號等），可無縫對接半導體工藝平臺主控系統。

5. 潔凈工藝設計，支持高純氣體

產品支持VCR卡套連接，潔凈焊接工藝，適用于半導體級高純氣體輸送，避免污染風險。

應用案例：某晶圓代工廠的典型氣體輸送控制系統

在某一12英寸晶圓制造廠中，易度MFC被應用于CVD工藝中三種前驅體氣體的混合輸送系統，具體需求如下：

混合氣體比例控制精度 ±1%以內

單臺設備日均運行時間 ≥20小時

對N?、SiH?、NH?等多種氣體兼容性要求高

易度提供的多通道質量流量控制系統，配合溫壓補償與自動調零功能，實現了長期穩定運行，設備換線時間縮短20%以上，顯著提升了良率。

以流量之“控"，護工藝之“精"

在半導體行業邁向更高制程節點的征程中，每一滴氣體的精準控制都是對品質的承諾。易度智能將繼續以技術實力和豐富的行業經驗，為半導體客戶提供更高效、更智能的氣體流量解決方案，與產業鏈攜手共進，共創“芯"未來。